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赵长安点点头,twinscan
at:750t使用的是波长为248nm的krf光源(氟化氪激光)系统,支持最小工艺制程130nm生产,优势就是twinscan系统的双晶圆平台,工作效率大幅度提升。
pas5500目前使用的有i-line光源(高压汞灯)365nm,最小工艺制程800-250nm,248nm的krf激光光源,最小工艺制程到180-130nm。
两者之间的区别就是twinscan
at:750t的工作效率更高,不过价格更贵,整机架构更加的精密复杂,零件更多。
可以想见的是,下一步asml肯定是要把twinscan
at向上和向下带入365纳米i-line光源,193nmarf(氟化氩)光源领域,形成一个系统性的光源跨度,满足用户不同的芯片制程需求。
不过既然pas5500既然已经有了足够的光源跨度和诸多型号,而且有了十年不断的技术完善和稳定性的证明,就算单机效率低一点赵长安也能忍受。
单机效率低多买几台就行了,而且真要是订单够多,可以让工人三班倒,人有多大胆地有多大产办法总比困难多。
看看萧扬明说的5500今年没货,750的订单却只是排到今年五月,赵长安就知道这些资本家们哪一个都是贼精明,毕竟相比已花更多的钱购买昂贵的机器,不如花小钱给工人开工资划算。
而实际上在赵长安的前一世,asml凭借着5500从一个濒临破产倒闭的企业,一直干到行业第二,直到06年全球首台浸没式光刻机twinscan
xt:1700i,193nm光刻机,最小工艺制程到45nm,上市量产,才逐步停产利润太低的pas5500系列,而5500经过了十六七年的不断的研发迭代,已经有了十几个型号。
asml的twinscan
at系统双晶圆平台,在目前的制程工艺里面,并没有足够的性价比优势,因为现在即使asml收购了sgv,然而依然有着nikon和canon这两家强大的步进式光刻机企业,可以提供同类的产品。
无论是g-line436nm光源,还是i-line,krf,这三家企业对市场份额的争夺一直都比较激烈。
况且在g-line,i-line领域,除了这三家企业,hitachi(日立),abm,nuflare
technology(东芝下属企业纽富来),tel(东京电子),sharp,——也都有着成熟的步进式光刻机售卖。
这里面abm成立于1986年,总部位于美国硅谷san
jose,一纳米江城研究院去年年初购买的一台g-line光源步进式光刻机,就是从abm购买,目前产品涵盖了g-line,i-line光源波段,最小工艺制程220nm。
abm最大的客户是nasa(m国航空航天局)和英特尔,因为价格相对便宜,在加上本土运输相对便捷,北美一半左右的高校和研究机构在g-line,i-line光源波段,购买的都是abm的光刻机,在北美排名第二,排在svg后边。
只不过abm明确无意于更窄光源的光刻机的研发制造,本身即使在未来几十年,220nm以上制程的光刻机的需求量将会保持着很大的需求量,对于abm来说一招鲜吃遍天。
就像svg投资大量资金搞157nm工艺研发,结果搞的利润低薄,被asml摘了桃子。
有着这么多的竞争企业,所以光刻机的价格也都是利润很高,但是还算不上太过于夸张的暴利。
直到将来步进式光刻机进入arf,arfi(193nm,水介质),有了真正的技术壁垒,65nm制程以下的步进式光刻机的暴利时代才到来。
——
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